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微电子与微光刻技术

微电子微光刻共16课时 6小时37分56秒

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简介

微电子技术工艺基础——微光刻与微/纳米加工技术，是人类迄今为止能够达到纳米级精度的加工技术，其加工设备和加工工艺也在不断发展以满足芯片加工从微米到纳米尺度的需求。一旦将电子元件作到纳米量级，其芯片的运行速度和内存都将大幅度提高，从而为未来的单电子计算机或纳米计算机的设计与实现开辟一条新的途径。

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讲师简介

陈宝钦 1966年9月毕业于北京大学物理系半导体专业；1968年7月中国科学院半导体研究所工作； 1985年9月中国科学院微电子研究所工作；兼职中国科学院研究生院教授，中国电子学会高级会员，北京半导体专业委员会委员、制版分会主任，全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任委员、微光刻分委会主任委员，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长，光学微细加工国家重点实验室学术委员会副主任委员。

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