|
首页
|
电子技术
|
电子应用
|
电子头条
|
社区
|
论坛
测评
博客
电子技术视频
|
下载
|
电路图
|
参考设计
|
Datasheet
|
活动
|
直播
|
datasheet
datasheet
文章
搜索
中文
En
|
首页
|
电子技术
|
电子产品应用
|
电子头条
|
论坛
|
大学堂
|
下载
|
参考设计
|
Datasheet
|
活动
|
技术直播
|
datasheet
datasheet
文章
搜索
大学堂
上传课程
首页
课程
TI培训
直播频道
专题
相关活动
其他资源
下载中心
电路图
参考设计
您的位置:
EEWORLD大学堂
/
电路基础
/
微纳加工(半导体制造工艺)瑞士联邦理工学院
/
Thermal evaporation:film formation and examples
本课程为精品课,您可以登录eeworld继续观看:
Thermal evaporation:film formation and examples
登录
播放列表
课程目录
课程笔记
课时1:Teaser
课时2:Successful MEMS products:accelerometer
课时3:Successful MEMS products:microphone
课时4:Successful MEMS products:BAW
课时5:Case study:thermomechanical microactuator
课时6:Cleanroom basics:introducing the issue of contamination
课时7:Cleanroom basics:cleanroom strategy
课时8:Basic principles of CVD and CVD reactors
课时9:CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me
课时10:Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon
课时11:Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors
课时12:CVD thin film growth model
课时13:Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond
课时14:Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid
课时15:Thermal evaporation:introduction and vapor creation
课时16:Thermal evaporation:film formation and examples
课时17:Thermal evaporation in CMi
课时18:Sputtering:introduction and plasma formation
课时19:Sputtering:spatial zones and Paschen law
课时20:Sputtering:DC RF magnetron
课时21:Sputtering:ion target interactions
课时22:Sputtering:film growth and control parameters
课时23:Sputtering:examples
课时24:Sputtering in CMi
课时25:SUPPLEMENTARY Other PVD methods
课时26:Film growth:atoms arrival and adhesion
课时27:Film growth:stress in thin films
课时28:SUPPLEMENTARY Film growth:growth modes and crystal structure
课时29:Introduction to lithography
课时30:Resist properties and exposure methods
课时31:SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function
课时32:UV lithography:direct writing and mask writing
课时33:UV lithography in CMi:mask fabrication
课时34:UV lithography:mask based lithography
课时35:UV lithography in CMi:mask based lithography
课时36:Electron beam lithography:tool overview
课时37:Electron beam lithography:electron optics and beam deflection
课时38:SUPPLEMENTARY Electron beam lithography:tool overview II
课时39:SUPPLEMENTARY Electron beam lithography:design preparation and fracture
课时40:Electron beam lithography:electronsample interactions
课时41:Electron beam lithography:resists
课时42:SUPPLEMENTARY Electron beam lithography:proximity effect
课时43:Alternative patterning methods:scanning probe lithography
课时44:SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods:replication methods
课时45:Dry etching in a gas plasma:etching anisotropy
课时46:Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma
课时47:Theoretical concepts of plasma generation
课时48:Types of dry etching equipment and plasma sources
课时49:Ion beam etching
课时50:Examples of etching processes for Sibased materials
课时51:Examples of etching processes for organic films and metals
课时52:Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications
课时53:HF bath for SiO2 and glass wet etching
课时54:Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath
课时55:Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths
课时56:Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach
课时57:Supercritical drying for realization of suspended structures test microst
课时58:Optical microscopy:inspection and dimension measurement
课时59:Optical thin film thickness measurement
课时60:Optical surface profile measurement
课时61:Mechanical surface profile measurement
课时62:Scanning electron microscopy
课时63:Focused ion beam:local cross sectional inspection and measurement
课时64:Electrical characterization
时长:10分32秒
日期:2020/05/30
收藏视频
上传者:桂花蒸
去评论
课程介绍
相关标签:
微纳加工
UV
CVD
本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺,以教授半导体制造的基本原理和流程。
显示全部 ↓
推荐视频
用户评论
Eeaglesky
powerful and have a learn
2020年06月05日 16:13:16
回复
|
顶
(1)
猜您喜欢
推荐帖子
【MSP430共享】挺不错的学习心经
MSP430学习心经(一)ClockMSP430根据型号的不同最多可以选择使用3个振荡器。我们可以根据需要选择合适的振荡频率,并可以在不需要时随时关闭振荡器,以节省功耗。这3个振荡器分别为:(1)DCO数控RC振荡器。它在芯片内部,不用时可以关闭。DCO的振荡频率会受周围环境温度和MSP430工作电压的影响,且同一型号的芯片所产生的频率也不相同。但DCO的调节功能可以改善它的性能,他的调节分为以下
hangsky
微控制器 MCU
单片机C语言教程(一)
学习单片机实在不是件易事,一来要购买高价格的编程器,仿真器,二来要学习编程语言,还有众多种类的单片机选择真是件让人头脑的事。在众多单片机中51架构的芯片风行很久,学习资料也相对很多,是初学的较好的选择之一。51的编程语言常用的有二种,一种是汇编语言,一种是C语言。汇编语言的机器代码生成效率很高但可读性却并不强,复杂一点的程序就更是难读懂,而C语言在大多数情况下其机器代码生成效率和汇编语言相当,但可
rain
单片机
要怎么设置TM4C129的中断向量表的偏移量呢?
[align=left][color=#000] 我是用TM4C129做IAP升级,分为bootloader程序和app程序,flash空间前64KB(0x00000000~0x00010000)分配给bootloader程序,其余给APP程序(0x00010000~0x00100000)。[/color][/align][align=left][color=#000]现在的情况是程序可以从boo
ypp240124016
微控制器 MCU
求助28335的EMIF问题
求前辈分享28335的EMIF设计原理图和程序,网上只看到有c6000系列的guide,新人感激不尽!
cljdzgcsj
DSP 与 ARM 处理器
怎么把PDF文件转为PPT格式
[font=宋体]公司招新人之后都会有一个入职培训的,新员工入职培训的内容都是保存的PDF文件的格式,可是给员工讲解的时候需要用到PPT的格式,这样讲解的时候内容才直观明了,员工也能更快的理解。那么要怎么把PDF文件转为PPT格式呢?[/font][font=宋体]文件格式的转换自然少不了工具的辅助,下面就跟大家讲解一下我认为挺不错的一款转换工具吧。[/font][font=宋体]1.[color
南栀姑娘
51单片机
信道划分技术是怎么回事?用单片机怎么控制双工口的数据接收和发送?
我用stc51单片机控制语音芯片isd1720,在pdf中说 接受和发送数据是同时的,但是不是要有命令发送完才能确定要返回什么值吗?同时收发是怎么实现的?
tianjixian
嵌入式系统
推荐内容
热门视频
更多
LabVIEW 循环定时之谜
LabVIEW 网络讲堂 第二季
村田顽童爬坡
如何选择一个电源模块
设计指南-为什么我们需要斩波放大器
安捷伦全新EMI预兼容测试方案
基础教程:模数转换器
基础教程:传感器及其如何使用
MPLAB代码配置器实验4
MPLAB® XC8 C编译器的架构特性
开源项目推荐
更多
LTM4618EV 演示板、26V、6A 降压模块稳压器,具有跟踪功能
ST7567LCD基于STM32F103的完整驱动源码 原理图 点亮效果图
MIKROE-2807,基于 MCP1643 LED 恒流调节器的 LED 驱动器 2 CLICK 板
基于STM32的WIFI天气时钟设计
【训练营】WriteMachine
LT3758A、10V 至 40V 输入、-12V 输出反相转换器的典型应用电路
PCB尺子,附带一个可调占空比PWM电路
STM32G474CEU6
具有 25 uA 反向泄漏电流的 LT1956IFE-5 双源电源的典型应用电路
TCR2EN11、200mA、1.1V 输出电压 CMOS 低压降稳压器的典型应用
热门文章
更多
英特尔X86与ARM的“架构王”之争
智兆基金等一批重点产业投资基金签约落户临港新片区
中美芯片公司研发投入不完全对比
体温监测或将成为标配,还能侦测新冠?2022年智能穿戴设备再进一步
STM32-定时器系统原理
STM32-一文读懂EXTI外部中断/事件系统
电磁流量计调试过程中存在的问题以及解决措施
电路图
传感放大器电路
电子管单端A类300B功放电路图
由555时基电路组成的红外发射电路
单相电动机双绕组驱动
ML4411典型应用电路
红外线遥控调光灯电路
NE555构成的袖珍LED阅读灯电路
双向超温报警电路
蓄电池自动充电器电路
晶体二极管-电容二倍升压电路(二)
射频信号自动循环监视控制器
相位鉴别器
差动输入FET缓冲的电流源电路图
小型3.3V备用电源MAX679电路图
延迟启动电路
红外电视电路
多路电源熔断报警器电路图
索浦电磁灶电路图
555简易彩电附加遥控电路
SAA3027(通用)红外线遥控发射电路
"菲"逻辑元件构形电路
高保真无线立体声音箱电路图
输出电流为3A的开关式集成稳压电源
差动输入一差动输出放大电路
PT100的前端电路
相电动机带点动的自动换向电路
小型断路器直接启动电路
三相电动机的简单短接制动电路
电脑主板电路图 815 2_10
可能感兴趣器件
NRWS153M63V16X36F
TCJA226M016S0300
Y-CONC-R402S-CU2M-2000-B
JT06RE-14-37SA(014)
PCF2010H02-1K24CT1
RNCF2512DTC16K2
W7NCF128H20CS3BG
T9GH101157DN
ASMT-LR50-232CB
8T710B35AB
10118615-228010TLF
RCR05G102JS
SC50M100BPF-815
MAL5114LS
WF128K32-70H1Q5A
SP1-021-S249/08-99
10124632-0213107TL
CCDNPO221K2H12754RLF
VFCP201042R700TCR0.2CBT
JH177128160CCNFMNFZLWN
70077R590B+/-30PPM
W5LCS-2124-R2/Q
TP11-SHV3-B-E-2-2
231219702553
RCMT04W364GTL
M55342K12B8L20C-TR
FP2001472521BCEDW
MFR25SJTD52-301R
703021800.01
896-032-521-807
电子工程世界版权所有
京B2-20211791
京ICP备10001474号-1
电信业务审批[2006]字第258号函
京公网安备 11010802033920号
Copyright © 2005-2025 EEWORLD.com.cn, Inc. All rights reserved
用户评论