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Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy
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时长：16分13秒
日期：2020/05/30
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上传者：桂花蒸
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相关标签：微纳加工 UV CVD

本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。

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